PhotoMask FSE 

경력: 3년 이상 ~ 10년 이하

우대사항

- 전기,전자공학, 화학공학, 반도체공학

- 해당 직무 경험, 고객사 Fab 대응 경험자

- 영어가능자

필수사항

- 반도체 Wet station 200/300mm H/W 유 경험자

- 반도체 wet Single tool 200/300mm H/W 유 경험자

- Cleaning 장비 H/W 유 경험자

- 기타 MS Office Tool  사용 가능자

담당업무 

- 반도체 Deep UV/EUV Mask Cleaner / Developer 장비  H/W Set up

- 고객사 H/W Issue 분석 및 Trouble Shooting 업무 진행

세부업무

신규 Mask Cleaner/Developer 장비 H/W Set Up

- H/W Parameter Set Up

- 고객사 H/W Spec. Sheet 정합성 검토

Mask Cleaner / Developer 고객사 H/W issue 대응

- H/W  Issue 발생 시 원인 분석 및 개선 방안 도출

- H/W 분석 List 및 History 정리

-  H/W Issue 분석에 대한 고객사 평가 진행

PhotoMask  FAE

경력: 3년 이상 ~ 10년 이하

우대사항

- 전기,전자공학, 화학공학, 반도체공학

- 해당 직무 경험, 고객사 Fab 대응 경험자

- 영어가능자

필수사항

- 반도체 Wet station 200/300mm 공정 유경험자

- 반도체 wet Single tool 200/300mm 공정 유경험자

- Cleaning 장비 공정 유경험자

- 불량분석 Tool 사용 가능자

- 기타 MS Office Tool  사용 가능자

담당업무

- 반도체 Deep UV/EUV Mask Cleaner / Developer 장비 Process Set up

- 고객사 process 불량 분석 및 Trouble Shooting 업무 진행

세부업무

신규 Mask Cleaner/Developer 고객사 process Set Up

- Critical parament Set up

- Process 평가 Recipe Set up

- Process 평가 진행(Particle)

- 고객사 Process Spec. Sheet 정합성 검토 

Mask Cleaner / Developer 고객사 process issue(Particle/Metal/parameter) 대응

- 불량 발생 시 원인 분석 및 개선 방안 도출

- 불량 분석 List up 및 history 정리

- 불량 분석에 대한 고객사 평가 진행